原始名称记载: 信越化学工业株式会社

本发明的磁冷冻材料用原料合金用R（MA）的组成式表示。另外，本发明的磁冷冻材料包含用R（MA）的组成式表示且具有NaZn型晶体结构的La（Fe,Si）化合物作为主相，还包含含有稀土元素（R）的副相，磁冷冻材料用原料合金中的含有稀土元素（R）的副相的比例为0.1体积%以上，所述磁冷冻材料不含α‑Fe，或者，在包含α‑Fe的情况下，α‑Fe的比例为0.5体积%以下。根据本发明，可提供由均质化温度导致的相变温度的变化量小的磁冷冻材料用原料合金和在宽泛氢化条件下吸储氢至饱和氢量为止、相变温度稳定的磁冷冻材料。

本发明提供一种负极体，其特征在于，所述负极体具有负极，所述负极包含：表面进行了粗糙化的负极集电体；设置于该负极集电体上的负极活性物质层；及该负极活性物质层的表面的具有锂离子传导性的离子传导层，同时所述负极体还具有与所述离子传导层邻接的固体电解质层，所述负极活性物质层包含负极活性物质颗粒，所述负极活性物质颗粒具有包含锂、硅及氧的化合物，所述负极活性物质颗粒能够由SiOLi进行表示，x1的值大于0.8且为1.2以下，y1的值为0.5以上且3.4以下。由此，可提供具有下述负极的负极体，所述负极在保持优异的电池特性的同时能够大幅地增加容量并能够抑制充满电时的膨胀。

提供包括基板、多层反射膜、保护膜和具有相移功能的吸光膜的反射型掩模坯料。吸光膜含有钌、钽和氮并且不含氧，且钌含量为80至90原子％、钽含量为5至15量％、氮含量为不大于10原子％，具有38至50nm的厚度和对于为在极紫外范围内的光的曝光光为10至14％的反射率和205至225度的相移。

粘度稳定性优异的化妆料包含(a)氨基醇改性有机硅和(b)聚甘油改性有机硅表面活性剂。

提供在高浓度下也为低粘度、长期保存中的粘度上升小的胶体二氧化硅及其制造方法。胶体二氧化硅，其含有二氧化硅粒子、包含含有具有酸酐结构的基团、具有酸酐水解的结构的基团或这两者的有机聚硅氧烷的分散剂、和水。

提供高热导率、低粘度、可抑制导热性填充剂的分离沉淀的导热性双组分加成固化型有机硅组合物，其由第一组分和第二组分构成，第一组分含有（B），第二组分不含下述（E）。（A）具有烯基的有机聚硅氧烷，（B）具有氢原子的有机氢聚硅氧烷，（C）导热性填充剂，其包含40～100μm的氢氧化铝粉末（C‑1）、5μm以上且不到40μm的氢氧化铝粉末（C‑2）、和0.1μm以上且不到5μm的导热性填充剂（C‑3），（C）成分中的（C‑1）和（C‑2）的合计比例为40～70%，（C）成分中的（C‑3）的比例为30～60%，（D）硅烷偶联剂、（E）氢化硅烷化反应铂催化剂。

提供一种物品，其可被用能够形成斥水斥油性、耐磨损性优异、液滴滑落性优异的固化被膜的、含有具有硅烷醇基和/或水解性甲硅烷基的含氟聚醚基聚合物和/或其部分(水解)缩合物的表面处理剂进行表面处理。所述物品为在表面具有包含含氟聚醚基的聚合物和/或其部分(水解)缩合物的表面处理剂的固化物的物品，且所述含氟聚醚基的聚合物为在分子中的一侧的末端具有3个与具有直链硅氧烷键的烃基键合的硅烷醇基或水解性甲硅烷基的聚合物。

提供稀土烧结磁铁，其特征在于，将距磁铁表面的深度0.1～200μm的范围内的任意的区域中的R（为1种以上的稀土元素，以Nd为必需）、Fe、Co、Cu、Ga、M1（为选自Co、Cu、Ga中的2种以上的元素，以Co为必需）的原子百分比分别设为[R]、[Fe]、[Co]、[Cu]、[Ga]、[M1]，将有助于晶界相形成的R的原子百分比设为[R]的情况下，满足关系式（1）[R]＝[R]‑[Fe]/7、关系式（2）[M1]＝[Co]+[Cu]+[Ga]、关系式（3）1.0＜[R]/[M1]＜2.4、和关系式（4）[Cu]+[Ga]≥0.28。由此，得到具有高磁特性并且耐蚀性优异的稀土烧结磁铁。

本发明涉及鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明为下述通式(A)表示的鎓盐单体。由此会展现优良的溶剂溶解性、高感度、及高的酸扩散抑制能力，借此可实现会展现优良的光刻性能的化学增幅抗蚀剂组成物。式中，相对于SO基位于α位及/或β位的R及R中的至少1者为五氟硫基或含取代基的四氟硫基。W为不含芳香环而包含脂环结构的碳数3~40的亚烃基，亦可包含杂原子。W为不含芳香环而包含脂环结构的碳数3~40的烃基，亦可包含杂原子。

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨率优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：超原子价碘化合物，为下式(1)～(4)中的任一者表示的至少1种，含羧基的聚合物，及溶剂；该含羧基的聚合物含有下式(5)表示的重复单元与选自下式(6)表示的重复单元、下式(7)表示的重复单元、下式(8)表示的重复单元、下式(9)表示的重复单元及下式(10)表示的重复单元中的至少1种。

本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限分辨度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物，以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，含有：式(1)～(4)中的任一者表示的至少1种高价碘化合物，预定的鎓盐化合物，含羧基的化合物，及溶剂。

提供一种三维(3D)成型品的制造方法，其能够获得不用为了固化而使用加热、光照射等特别的能量就可以固化且耐候性、耐久性等优异的成型品。所述制造方法具有以下工序：i)通过用3D打印机将触变系数为5以上且低于10的第一室温固化性有机聚硅氧烷组合物涂布在基材上，从而形成第一层的工序；ii)在非加热条件下放置所述第一层，从而形成为部分固化的第一层的工序；iii)通过3D打印机将触变系数为5以上且低于10的第二以后的室温固化性有机聚硅氧烷组合物涂布在所述部分固化的第一层上，从而形成第二层以后的层的工序；以及iv)在每一层形成时，在非加热条件下放置所述第二层以后的层，从而形成为部分固化的第二层以后的层的工序。

提供光造形用紫外线固化性有机硅组合物，是包含（A）在1分子中具有2个以上介由与硅原子直接结合的氧原子结合于该硅原子的含有自由基聚合性基团的基团（其中，不包括包含氧原子以外的杂原子的基团）的有机聚硅氧烷、（B）平均粒径为10nm～1000nm、并且采用甲醇滴定法得到的疏水化度为60%以上的疏水性二氧化硅粒子、和（C）光聚合引发剤的光造形用有机硅组合物，对于该组合物，在25℃下以8000mJ/cm的照射量照射波长405nm的紫外光后，进而在85℃、85%RH的环境下使其固化24小时，得到的厚2.0mm的固化物的拉伸强度为4.5MPa以上，断裂伸长率为300%以上。

本发明的目的在于，提供一种有机聚硅氧烷，其是用于提供在两末端以高比例导入（甲基）丙烯酸基并在分子链中含有季铵阳离子部位的硅酮大分子单体的中间体化合物。即，本发明提供一种由下述通式（1）表示的在分子链中具有叔氨基的有机聚硅氧烷。（在通式（1）中，R相互独立地是从碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～10的芳基以及碳原子数为7～10的芳烷基选出的基团，R相互独立地是从碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～10的芳基以及碳原子数为7～10的芳烷基选出的基团，Q和Q相互独立地是由下述式（2）或者下述式（3）表示的基团，a是1～400的整数，b是1～50的整数），（在式（2）中，n1是2～10的整数，n2是0～10的整数），（在式（3）中，R是从碳原子数为1～10的烷基、碳原子数为6～10的芳基以及碳原子数为7～10的芳烷基选出的基团）。

室温固化性树脂组合物，其包含由下述式（1）表示的有机硅化合物，给予高强度化的固化物。（式中，R独立地为不包括脂肪族不饱和键的未取代或取代的碳原子数1～12的一价烃基，R为氢原子或碳原子数2～12的脂肪族不饱和一价烃基，R独立地为不包括脂肪族不饱和键的未取代或取代的碳原子数1～12的一价烃基，A为碳原子数2～8的二价烃基，k为0～2的整数，m为3～6的整数，k+m为3～8的整数，n为0～100的整数）。