原始名称记载: 重庆市亦高光电有限公司

本发明公开了一种超硬复合膜层的制备方法，采用真空镀膜技术进行多层复合膜层的制备。本发明针对金属结构件膜层分段加工损失率高，及现有PVD颜色层绝缘差、耐刮不足易脱落问题，采用真空镀膜一体化制备超硬复合膜层。先真空等离子处理基材以保洁净，再依次镀制结合层、颜色层、光学层和超硬层，最后镀制过渡层及防指纹层。最终，使膜层的纳米压痕硬度≥14GPa，光学层同步解决绝缘问题，一体化加工大幅降低产品损失率。

本发明公开了一种真空镀膜干法蚀刻方法，包括如下步骤：1）根据薄膜的功能属性，确定待进行蚀刻的膜层材料；2）根据待蚀刻的膜层材料，选择用于进行蚀刻工艺的蚀刻气体；3）根据选定的蚀刻气体，对待蚀刻的膜层材料进行正交试验，确定蚀刻速率；4）根据待蚀刻的膜层表面的形貌，结合蚀刻气体对应的蚀刻速率，确定蚀刻时间；5）最后，在真空环境下，对待蚀刻的膜层进行蚀刻。本发明能够降低功能性膜层表面粗糙度，使膜层表面平坦化，从而提升耐磨性能。

本发明涉及功能性薄膜技术领域，公开了一种具有高透光性与UV紫外光过滤性的复合功能膜，从下至上依次包括：基材层、结合层、双机制UV过滤功能层、超硬层和表面功能层；所述结合层为Cr或Ti层；所述双机制UV过滤功能层包括无序多层介质膜和等离子体共振增强吸收层；所述超硬层为类金刚石碳相与六方氮化硼纳米片形成的三维互穿网络结构；所述表面功能层为光催化型表面功能层，所述光催化型表面功能层为具有微纳分级多孔结构的TiO/SiO复合材料。本发明的复合功能膜实现了高UV阻隔与高透光平衡，提升了膜体机械耐久性，且可适用于多场景。