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一种原位生成堇青石的超平滑低膨胀陶瓷釉的制备方法

发明专利有效
4权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

赵磊; 席敏艺; 梁健; 王松; 张权; 劳新斌

IPC 分类

C04B 41/86 (2006.01)C03C 8/00 (2006.01)

本发明公开了一种原位生成堇青石的超平滑低膨胀陶瓷釉的制备方法,通过在高钾低钠的体系中引入氧化铋、氧化锑形成K‑Mg‑Sb‑Bi的多元低共熔体系,不仅实现了釉料的低热膨胀性和平滑特性,更成功引导了堇青石微晶在釉玻璃相中原位析出,从而获得了综合性能卓越的陶瓷釉面。

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