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一种硬XFEL条件下的样品辐照损伤测试装置和系统
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
刘星; 姚云颖; 李冰; 朱瑞雪; 刘鹏; 刘志
IPC 分类
G01N 23/2273 (2018.01)G01N 23/04 (2018.01)G01T 1/02 (2006.01)
本发明提供一种硬XFEL条件下的样品辐照损伤测试装置和系统,涉及强光源实验技术与辐射剂量学。本发明包括真空腔体,真空腔体的内腔中设有姿态调节机构、剂量测试机构、样品台和样品测试机构,姿态调节机构用于夹持衰减片,样品台用于放置样品;在进行辐照损伤测试时,真空腔体的内腔中会形成XFEL光路;衰减片、剂量测试机构、样品和样品测试机构依次沿XFEL的传播方向位于XFEL的光路中。本发明能够在真空环境下连续、快速、精准调节XFEL的辐照剂量,并实时给出样品耐受极限。