一种用于半导体工艺尾气的监测处理方法及系统

本发明公开了一种用于半导体工艺尾气的监测处理方法及系统。该方法通过接收半导体制造设备的工艺配方信息，基于预存的工艺与尾气关联模型预测尾气的浓度和流量，并据此对混合腔和预备腔的尾气存量进行规划；在预测到高浓度尾气时，控制预备腔向混合腔注入低浓度尾气以形成缓冲底料。通过实时监测尾气工况数据，根据浓度参数进行智能分流：浓度正常时导入燃烧腔，浓度过低时导入预备腔暂存，浓度过高时导入已含缓冲底料的混合腔。随后动态判断混合腔浓度，并补充低浓度尾气直至浓度达标后导入燃烧腔，本发明实现了尾气处理的前瞻预测与动态闭环控制，有效缓冲浓度冲击，提升处理效率与系统安全性。