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一种基底无关的非金属透明辐射冷却结构
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
董超; 吴彤; 吴国永; 路海; 董世青; 刘洪超; 沈克胜
IPC 分类
G02B 1/10 (2015.01)C23C 14/08 (2006.01)C23C 14/30 (2006.01)
本发明公开了一种基底无关的非金属透明辐射冷却结构，其包括基底及镀制于基底上的透明辐射冷却薄膜，该透明辐射冷却薄膜的膜系结构为：基底/MBAB/Air，其中A表示厚度为40nm的氧化铟锡薄膜，B表示厚度为1450nm的氧化铪薄膜，M表示厚度为200nm的氧化铟锡薄膜；所述非金属透明辐射冷却结构在3‑14μm的红外光谱范围内均有明显的选择性吸收效果，非金属透明辐射冷却结构的辐射净冷却功率达到114.0W/m，在85%的湿度和85℃的环境下非金属透明辐射冷却结构能够表现出良好的环境稳定性。