一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件

本发明属于微纳成形技术领域，尤其涉及一种双面压印成形方法及双面微纳结构元件。双面压印成形方法包括如下步骤：制模，准备图案化基底，图案化基底具有图案面，于图案面加工对准结构，并根据对准结构于图案面加工微纳结构；切边，根据对准结构，沿第一方向切除图案化基底的一边缘且形成第一定位面；沿第二方向切除图案化基底的另一边缘并形成第二定位面，以使图案化基底加工为成形模板；成形，准备具有定位腔的定位套，将两个成形模板间隔叠置于定位腔，压紧两成形模板，以将坯料成形为双面微纳结构元件。本发明使双面微纳结构元件上下两个表面形成的两个图案区域能够高精度的对准，有效提高坯料在双面微纳结构加工过程中的成形精度。