一种高精度耐酸光刻胶及其制备与使用方法

本发明涉及半导体技术领域，具体为一种高精度耐酸光刻胶及其制备与使用方法，包括第一树脂基体、第二树脂基体、溶剂体系、感光剂、功能助剂、第一助剂、第二助剂与第三助剂。该高精度耐酸光刻胶及其制备与使用方法，通过引入三氟甲基苯乙烯，利用C‑F键的化学稳定性，确保在氢氟酸中浸泡保持图形完整，从而提高暗蚀率与耐蚀刻性能，同时设计线性酚醛树脂与双酚A型环氧树脂的组合，保留对酸性溶液的抵御能力并强化界面结合；增设受阻酚类抗氧剂以解决氧化降解问题，提升光刻胶存储周期，通过流平剂降低涂层表面张力，利用偶联剂构建光刻胶‑硅片的化学结合桥梁，设计邻醌二叠氮类感光剂降低显影后图形线宽偏差。