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基于测量分布差异的基点自适应高斯过程扩展目标跟踪方法

发明专利有效
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

杨超群; 徐梦蝶; 曹向辉; 杨鑫

IPC 分类

G06T 7/246 (2017.01)G06T 7/277 (2017.01)G06T 7/149 (2017.01)G06V 10/766 (2022.01)

本发明公开了一种基于测量分布差异的基点自适应高斯过程扩展目标跟踪方法,采用原始高斯模型实现非参数建模,构建角度与径向距离之间的函数关系并实现对目标形状的描述;采用卡尔曼滤波器实现对目标运动模型的状态预测;采用基于测量分布驱动的基点自适应扩展目标跟踪算法来实时动态调整目标轮廓上的基点数目及位置。本发明方法能够在有效降低模型复杂度的前提下保证跟踪效果,在对复杂形状和剧烈形状变化的跟踪任务中具有明显的优势。