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基于残差双子空间投影的制备调控方法
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
郭璇; 殷俊锋; 张鑫龙; 江宇睿
IPC 分类
G16C 60/00 (2019.01)C04B 35/622 (2006.01)G16C 20/70 (2019.01)G06N 3/04 (2023.01)
本申请涉及陶瓷基复合材料制备技术领域,公开了基于残差双子空间投影的制备调控方法。该工艺先构建包含工艺参数子空间和性能残量子空间的时变工艺‑性能双子空间,再基于该双子空间构建残量求解模型,利用模型计算制备过程中各时序节点的性能残量;通过双子空间投影运算确定工艺参数调整方向,按该方向调整参数并制备材料,检测实际性能后重复残量计算、参数调整及制备步骤,直至性能残量满足预设条件,得到稳定制备材料的工艺参数组合。该工艺提升了陶瓷基复合材料制备的调控精准性与稳定性,为材料性能的稳定控制提供有效保障。