一种激光器芯片表面钝化层的质量控制方法

本发明公开一种激光器芯片表面钝化层的质量控制方法及相关装置，包括：在芯片表面形成具有不同几何特征的监控图形，并指定其中一个监控图形作为参比基准，其余作为待测监控图形；在钝化层沉积的成核至早期致密化阶段，对待测监控图形和参比基准同步施加周期性光激发，获取光响应信号并进行差分处理，以判定钝化层的致密化进程；在沉积的稳态阶段，对待测监控图形和参比基准同步施加脉冲光激发，获取弛豫信号并进行差分处理，以判定钝化层的界面质量；根据判定结果，当偏离阈值时，调整下一批次沉积工艺的阶段参数。本发明能够在不破坏真空的条件下实时监控并反馈调节钝化工艺，抑制工艺漂移，降低界面缺陷，提高激光器芯片的性能和可靠性。