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기록
一种半导体器件及其制备方法、存储器和存储系统
발명유효
20청구항 · 4 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
晏昌杰; 石俊; 孙一晨; 刘峻
IPC 분류
H10B 63/10 (2023.01)H10B 63/00 (2023.01)H10N 70/20 (2023.01)H10N 70/00 (2023.01)
本申请提供了一种半导体器件及其制备方法、存储器和存储系统,该半导体器件包括多个存储单元、第一保护层、第二保护层和第三保护层,存储单元包括依次堆叠的第一电极、选通层、第二电极、相变层和第三电极;第一保护层围绕所述选通层的侧壁;第二保护层围绕所述存储单元的侧壁,且所述第一保护层位于所述第二保护层和所述选通层之间;第三保护层围绕所述存储单元的侧壁,且所述第二保护层位于所述第三保护层和所述第一保护层之间,由于选通层的侧壁具有第一保护层、第二保护层和第三保护层,可以增加对选通侧壁的保护,提升选通层的稳定性。