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半导体元件被覆用玻璃以及半导体元件被覆用烧结体
发明专利有效
3权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
广濑将行
IPC 分类
C03C 3/087 (2006.01)C03C 3/091 (2006.01)H10W 74/43 (2026.01)H10W 74/10 (2026.01)
本发明提供一种环境负荷小、在熔融工序中不易失透的半导体元件被覆用玻璃。本发明的半导体元件被覆用玻璃的特征在于,作为玻璃组成,以摩尔%计含有:(SiO+ZnO) 40%~75%、BO0~20%、AlO5%~15%、(MgO+CaO) 8%~22%,并且以摩尔比计,AlO/(SiO+ZnO)为0.2以下,且实质上不含有铅成分。