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기록
用于光刻应用的掩模版调节
발명유효
15청구항 · 2 독립항
§ Ⅰ
개요
발명자
B·A·克罗赛特; M·霍本; 约翰内斯·昂伍李; L·L·贝克; 克塞尼亚·谢尔盖夫纳·马卡伦科; J·C·G·范德尔桑登; M·A·范德克尔克霍夫; B·A·埃文斯; D·A·迪恩; S·H·范德穆伦
IPC 분류
G03F 7/20 (2006.01)G03F 1/68 (2006.01)G03F 1/76 (2006.01)
一种用于调节掩模版的方法，包括确定所述掩模版在使用期间的目标操作温度。所述方法包括控制所述掩模版的温度以趋近于所述掩模版在使用期间的所述目标操作温度。所述方法包括将所述掩模版曝光于辐射以执行制造过程。