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一种用于镉污染旱地的毛豆叶面阻隔剂及其应用方法
发明专利有效
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
郝秀珍; 李嘉玲; 孙毓; 隽铭阳
IPC 分类
A01N 43/12 (2006.01)A01N 45/00 (2006.01)A01N 43/22 (2006.01)A01N 37/44 (2006.01)A01P 21/00 (2006.01)A01G 7/06 (2006.01)A01G 22/40 (2018.01)
一种用于镉污染旱地的毛豆叶面阻隔剂及其应用方法,所述叶面阻隔剂的有效成分包括赤霉素、芸苔素和蛋氨酸中的至少一种,且所述叶面阻隔剂的各成分使用浓度为35 mg/L~1.5 g/L。该发明提供的叶面阻隔剂应用于镉污染农田的毛豆种植,可有效降低毛豆籽粒中的镉含量,降幅可达29.7%至51.30%,尤其对重金属高积累品种效果更为显著。该阻隔剂通过在大豆结荚开花期和鼓粒期分别喷施,每个时期连续喷施三天,选择在下午四时至五时之间进行叶面喷施,操作简便,成本低廉,不会对土壤环境造成二次污染,具有良好的应用前景和经济性,对实现镉污染旱地农田的安全利用具有积极意义。