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基于纳米划痕法的氮化镓磨抛表面损伤层厚度的评估方法
发明专利有效
8权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
陈科蓓; 牛牧童; 宋文涛; 高晓冬; 韩厦; 张润楠; 徐科
IPC 分类
B24B 1/00 (2006.01)B24B 49/00 (2012.01)G01N 19/00 (2006.01)G01B 21/08 (2006.01)
本发明公开了一种基于纳米划痕法的氮化镓磨抛表面损伤层厚度的评估方法,其包括:获取抛光液中单颗磨粒的磨粒划痕参数;其中,所述抛光液用于对氮化镓晶圆进行抛光处理;根据获取的磨粒划痕参数确定纳米压痕仪的纳米划痕参数;利用纳米压痕仪根据确定的纳米划痕参数在小尺寸的氮化镓晶圆表面上制备相应状态的划痕,从而评估出氮化镓晶圆磨抛表面的损伤层厚度。本发明将大量实际工艺参数映射为纳米划痕单次实验参数,实现“小样本模拟大过程”。进一步地,本发明仅需小尺寸试样(10×10mm量级)即可评估整片晶圆损伤状态。更进一步地,本发明的评估方法适用于不同抛光工艺(不同粒径、转速、时间)的快速评估。