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一种离子型光致产酸剂中过量卤素的处理方法

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

张延魏; 寇永光; 李志敏; 苏杰; 别国军; 杜渭松; 高嫒嫒; 张澎钊; 张胜军; 李冯喜

IPC 分类

C07C 309/30 (2006.01)C07C 25/18 (2006.01)C07C 309/25 (2006.01)C07C 309/06 (2006.01)C07C 321/30 (2006.01)C07C 319/28 (2006.01)C07C 303/32 (2006.01)C07C 303/44 (2006.01)C07C 17/395 (2006.01)C07C 51/41 (2006.01)C07C 51/487 (2006.01)C07C 65/10 (2006.01)C01B 25/455 (2006.01)C01G 30/02 (2006.01)

本发明提供一种离子型光致产酸剂中过量卤素的处理方法,在反应器中加入待处理的离子型光致产酸剂粗品,加入溶剂搅拌,然后加入硫酸酯类试剂,进行反应,然后加入阴离子原料继续反应,反应完成后,经过后处理,得到卤素含量合格的离子型光致产酸剂。卤素含量≤10 ppm。硫酸酯类试剂为硫酸二甲酯、硫酸二乙酯、硫酸二丙酯或硫酸二丁酯。本发明为反应条件温和、工艺过程简单、对环境友好以及产率高的一种离子型光致产酸剂中残留卤素的处理方法,可广泛适用于碘鎓盐、硫鎓盐类光致产酸剂的制备之中。