返回搜索
档案
自修复高分子材料及其制备方法与应用
发明专利有效
2浏览
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
江世海; 钟传功
IPC 分类
C08G 18/66 (2006.01)C08G 18/50 (2006.01)C08G 18/32 (2006.01)C08G 18/48 (2006.01)C08G 18/75 (2006.01)C08G 18/10 (2006.01)B60J 1/20 (2006.01)
本申请公开了一种自修复高分子材料及其制备方法与应用,涉及高分子材料领域。自修复高分子材料的分子主链包括聚氨酯结构单元以及化学键接与聚氨酯结构单元之间的扩链单元,聚氨酯结构单元的化学结构为,其中,n为20~30的整数,*表示连接位点;扩链单元包括第一扩链单元、第二扩链单元以及第三扩链单元,第一扩链单元为4,4'‑二羟基二苯甲酮单元,第二扩链单元为草二酰肼单元,第三扩链单元为聚醚胺单元。该自修复高分子材料综合性能优秀。