一种共溅射合金薄膜、制备方法及应用

本发明公开了一种共溅射合金薄膜、制备方法及应用，属于极紫外掩模吸收材料技术领域，本发明涉及一种通过磁控溅射共溅射制备Pt‑W合金薄膜的方法和其相关应用，制备方法包括以下步骤：根据薄膜的结合能力和刻蚀能力设计三层结构，上层Pt，中层Pt‑W合金，下层W三层膜系，将Pt靶材和W靶材安装在磁控溅射系统上；采用双靶磁控溅射共溅射方法在基片上制备共溅射Pt‑W合金薄膜；共溅射Pt‑W合金薄膜通过计算设计元素比例。本发明为新型的极紫外掩模吸收层研发提供一种方案。