内嵌式工艺偏差监测装置和补偿设备

本发明涉及半导体芯片技术领域，提供一种内嵌式工艺偏差监测装置和补偿设备，该装置，集成于半导体芯片内部，包括：激励模块、N组开关组件、信号接收模块和控制模块；激励模块包括电流源和电压源中的至少一者，用于向待测对象提供激励信号，以获得响应信号；开关组件包括固定电位端、第一开关和第二开关；控制模块，用于控制各组开关组件中的第一开关和第二开关的通断，以将激励模块和信号接收模块选择性地接入至N个待测对象中的一个；信号接收模块包括电流测量单元和电压测量单元中的至少一者，用于接收响应信号，并根据响应信号进行测量以获得测量值；测量值用于计算待测对象的工艺偏差。本发明用于实现少端口且高效率的工艺监测与动态补偿。