一种硅片清洗装置与清洗方法

本发明属于硅片加工技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置与清洗方法，一种硅片清洗装置，包括清洗箱，清洗箱内固接有多个竖杆，多个竖杆中位于左侧的两个竖杆之间滑动连接有一个移动座，位于右侧的两个竖杆之间滑动连接有另一个移动座，两个移动座之间连接有移动板，移动板上开设有多个固定槽，清洗箱内固接有多个气管，每个气管上均开设有多个气孔，清洗箱内连接有限制结构，限制结构能够使上浮气泡的初始体积减小，所述的一种硅片清洗装置用于清洗硅片的清洗方法，该方法包括以下步骤：步骤一：将硅片插入移动板的固定槽中，启动电动推杆推动夹板与辅助板共同夹紧硅片，能够使上浮气泡具有较小体积，使污染物被充分清洗，提高清洗效率。