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空间光调制单元及曝光装置

发明专利有效
30权利要求 · 4 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

德见宪亮; 川户聪; 梶山比吕志; 松桥佑介; 山口晃辉; 长谷川悠

IPC 分类

G03F 7/20 (2006.01)

空间光调制单元包括空间光调制器和罩,该空间光调制器包含具有二维排列的多个反射镜的调制部、包围所述调制部的框体/以及搭载有所述调制部和所述框体的基板,所述罩在所述空间光调制器中位于光射入所述调制部的一侧,安装于所述空间光调制器且限制光向所述框体的射入,所述罩具有开口部,光经由所述开口部射入所述调制部。