针对具有至少两个X射线源的X射线系统的冷却

本发明涉及用于具有至少两个X射线源的X射线系统（102）的冷却系统（100）。所述冷却系统包括：冷却单元（120），其被配置为提供用于冷却X射线源（110）和另外的X射线源（210）的冷却介质的总流量（230）；流量分配器（220），其被配置为将冷却介质的所述总流量（230）分配为流向所述X射线源（110）的部分流量（231）和流向所述另外的X射线源（210）另外的部分流量（232）；以及控制器（150），其用于控制所述冷却单元（120）。所述控制器被配置为：接收待机触发信号，并且响应于所述待机触发信号来控制所述冷却系统（100）以调整所述部分流量（231），从而以待机流率向所述X射线源（110）提供待机冷却流量；并且接收应用触发信号，并且响应于所述应用触发信号，控制所述冷却系统（100）来调整所述部分流量（231），从而以应用流率向所述X射线源（110）提供应用冷却流量，所述应用冷却流量的所述应用流率大于所述待机冷却流量的所述待机流率。本发明还涉及包括所述冷却系统的X射线系统，用于冷却所述X射线系统的X射线源的方法，计算机程序单元和计算机可读介质。