氧化镓基板用研磨剂及研磨方法

本发明的课题是提供将氧化镓基板以高研磨速度进行研磨的研磨用组合物及其研磨方法。解决手段是一种研磨用组合物，是包含二氧化硅粒子、水和多价阴离子的、氧化镓基板的研磨用组合物，该多价阴离子的含量在该研磨用组合物中为0.002摩尔/升以下。多价阴离子为包含选自硫酸根离子、草酸根离子、柠檬酸根离子和磷酸根离子中的至少1种多价阴离子的多价阴离子。进一步包含1价阴离子，该1价阴离子的含量在该研磨用组合物中为0.04摩尔/升以下。一种研磨用组合物，其中1价阴离子为包含选自硝酸根离子、氯离子、溴离子、氯酸根离子、溴离子、乙酸根离子、甲酸根离子、丙酸根离子和丁酸根离子中的至少1种1价阴离子的1价阴离子。pH为5.0以上且9.5以下。