一种莫尔纹金超晶格结构及其大面积制备方法

本发明属于微纳光学材料制备技术领域，具体公开了一种莫尔纹金超晶格结构及其大面积制备方法。该方法首先利用溶剂蒸发自组装技术，在基底上构筑单层PS微球有序阵列，并以此为牺牲模板，旋涂制备不同周期的PU压印模板。随后，采用该模板对光学胶进行压印，形成六方非密排半球阵列。进一步通过离子溅射和退火，获得六方非密排金纳米阵列。最后，在金纳米阵列表面蒸镀TiO薄膜，旋转一定角度后再次压印堆叠，即可制备莫尔纹金超晶格结构。该技术在衬底上可以快速制备莫尔纹金超晶格结构，通过调节两层阵列的旋转角度，可实现多种莫尔纹图案。结合高取向性的原始压印模版，可制备大面积、高一致性的莫尔纹金超晶格结构，适合工业化的大规模生产应用。