基板沉积设备和使用该基板沉积设备的基板沉积方法

公开基板沉积设备和使用该基板沉积设备的基板沉积方法。该基板沉积方法包括：将基板放置在基板沉积设备中；以及在所述基板沉积设备中对所述基板执行沉积工艺。所述基板沉积设备包括：工艺室，具有工艺空间；台，在所述工艺室中并且被配置以支撑所述基板；以及沉积源模块。所述沉积源模块包括：多个第一沉积源，沿为水平方向的第一方向布置；多个第二沉积源，沿所述第一方向布置；多个第三沉积源，沿所述第一方向布置；以及多个第四沉积源，沿所述第一方向布置。所述对所述基板执行所述沉积工艺包括：加热所述沉积源模块；以及在平行于第二方向的方向上移动所述沉积源模块，所述第二方向为与所述第一方向相交的水平方向。