一种复合掩膜版及其制备方法

本发明涉及光掩膜基版技术领域，具体涉及一种复合掩膜版及其制备方法，包括以下步骤：选择低膨胀系数高分子膜材，并采用等离子进行清洗；在该高分子膜材表面设定的位置上开出带锥角的类圆锥台孔洞；对开出带锥角的类圆锥台孔洞的高分子膜材进行清洗；按照设计的图形得到高精度掩膜版图案；依据高精度掩膜版图案，通过磁控溅射法在高分子膜材表面沉积一层磁性金属薄膜，进而制成复合掩膜版。通过在磁控溅射的过程中，增加光刻高精度Mask，对溅射区域进行整形，从而使高分子膜层带有磁性的同时，保持孔洞精度，可以提高OLED制程中有机小分子蒸镀过程时有机层材料的厚度、精度、均匀性等，并进一步提升显示器件的画面显示效果。