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一种弯曲调制的全光纤可饱和吸收体及其设计制备方法

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

江鸿博; 沈嘉怡; 宋瑞龙; 金磊

IPC 分类

H01S 3/1115 (2023.01)H01S 3/067 (2006.01)G02B 26/00 (2006.01)G06F 30/20 (2020.01)G06F 111/10 (2020.01)

本发明涉及光纤锁模激光器技术领域,具体公开了一种弯曲调制的全光纤可饱和吸收体及其设计制备方法。该方法通过在普通单模光纤中引入可控的宏观弯曲调制,使弯曲引起的线性损耗与光纤内的非线性克尔效应产生耦合。当入射光功率较高时,克尔效应引起的折射率调制增强光纤中心区域的导光能力,从而部分补偿原有的弯曲损耗,实现高强度光低损耗透射;而光场边缘低强度区由于折射率调制不足以补偿弯曲损耗,光能量泄露增强,形成低强度光高损耗抑制。该光强依赖型弯曲损耗调制机制构建了一种全光纤的可饱和吸收特性,利用光纤自身结构即可获得可饱和吸收行为。该设计简化了锁模激光器中的器件结构,降低了制造成本,提升了与保偏光纤系统的兼容性。