半导体装置以及其制造方法

提供一种半导体装置以及其制造方法。制造方法包含以下步骤：将一半导体层图案化为一通道层，其中该半导体层位于一基板上的一介电层上方；移除该通道层下方的该介电层的一第一部分以转动通道层，使得该通道层的一第一端高于该通道层的一第二端；及在该通道层上方形成一栅极结构。