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一种Ag/硫化物异质结材料的制备方法及应用

发明专利有效
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9权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

葛飞跃; 张春艳; 丁永良

IPC 分类

B01J 27/04 (2006.01)B01J 35/39 (2024.01)B01J 37/08 (2006.01)C01B 3/04 (2026.01)H10F 77/12 (2025.01)B82Y 30/00 (2011.01)B82Y 40/00 (2011.01)

本发明公开了一种Ag/硫化物半导体异质结材料的制备方法及应用,属于纳米材料领域。本发明先将含有AgS/半导体异质结不饱和脂肪烯和不饱和脂肪胺溶液混合,然后加入有机膦配体,在150~200℃反应不少于10分钟,即可的到Ag/硫化物半导体异质结,制备方法简单、无需精确调控金属与半导体之间的成核与生长速率,成本低、易规模化生产,且底物适用范围广,该方法适配的底物包括AgS/CdS异质结、AgS/ZnS异质结、AgS/ZnCdS异质结,不受金属与硫化物半导体晶格失配度的限制,所制得的Ag/硫化物异质结材料作为光催化剂,具有优良的催化能力,等离激元诱导的催化产氢速度可达585.4μmol/g/h。