返回搜索
档案
一种用于不规则半导体零件清洗的清洗框及其工作方法
发明专利有效
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
陈国贤
IPC 分类
B08B 3/02 (2006.01)B08B 13/00 (2006.01)H10P 72/10 (2026.01)H10P 72/00 (2026.01)
本发明涉及半导体行业零件清洗技术领域,具体涉及一种用于不规则半导体零件清洗的清洗框及其工作方法,清洗框包括主架、多根支撑条、一对横梁和间隔替换板;主架为框架结构,前后两面的框架上分别对应开设两条水平滑道,底面沿前后方向平行设置框架结构;支撑条安装在主架的底面,上面放置零件,从底部支撑零件进行高压清洗;横梁上安装间隔替换板,两端与滑道配合,调节两块间隔替换板之间的间距,夹紧固定零件。本发明针对不规则形状零件具有通用性,清洗框主架侧壁设计腰形滑道,支撑零件的配件为间隔尺寸不同的替换板,替换板通用性强,且具有底部支撑两侧对夹使产品稳定的优点;间隔板通过螺钉锁紧在横梁上,具有快速调节,支撑稳定的优点。