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一种可配位型光致产酸剂及其制备方法与在金属氧簇光刻胶中的应用

发明专利有效
10权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

王旭; 刘越; 王倩倩; 张开强

IPC 分类

C07C 309/77 (2006.01)C07C 303/28 (2006.01)C07D 209/76 (2006.01)G03F 7/004 (2006.01)

本发明提供一种可配位型光致产酸剂及其制备方法与在金属氧簇光刻胶中的应用。本发明旨在拓展光刻胶材料的种类,解决金属氧簇化合物曝光灵敏度低的问题。本发明可配位型光致产酸剂设计精髓在于其阴离子部分(羧酸基团)含有能与金属氧簇核心金属离子发生特异性、适度强度配位作用的官能团,实现了PAG与金属氧簇的“配位驱动自组装”或“预组织”,从而实现精确的纳米尺度定位,提高金属氧簇光刻胶灵敏度,抑制无效酸扩散,提升材料均一性与稳定性,实现高分辨率成像,适用于紫外光刻、电子束光刻、极紫外光刻等技术,展现出高灵敏度、高分辨率成像的能力及低的线宽粗糙度,具有广泛的应用价值。