鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法

本发明涉及鎓盐、光酸产生剂、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明为下述通式(A)表示的鎓盐单体。由此会展现优良的溶剂溶解性、高感度、及高的酸扩散抑制能力，借此可实现会展现优良的光刻性能的化学增幅抗蚀剂组成物。式中，相对于SO基位于α位及/或β位的R及R中的至少1者为五氟硫基或含取代基的四氟硫基。W为不含芳香环而包含脂环结构的碳数3~40的亚烃基，亦可包含杂原子。W为不含芳香环而包含脂环结构的碳数3~40的烃基，亦可包含杂原子。