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磁场下多巴胺自聚合形成适配体-分子印迹协同识别的荧光/比色双模式传感器的制备方法与应用
发明专利有效
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
刘懿苇; 冉毅; 张惠; 张冀川; 陈佳; 王珂; 扈晓鹏
IPC 分类
C08G 83/00 (2006.01)C08J 9/26 (2006.01)C08L 87/00 (2006.01)G01N 21/64 (2006.01)G01N 21/78 (2006.01)
本发明涉及一种磁场下多巴胺自聚合形成适配体‑分子印迹协同识别的荧光/比色双模式传感器的制备方法与应用,其制备方法包括:步骤1制备含锆金属有机框架材料UiO‑66‑NH;步骤2制备适配体修饰的含锆金属有机框架材料Apt‑UiO‑66‑NH:步骤3在UiO‑66‑NH‑Apt、虚拟模板剂,交联剂多巴胺与缓冲溶液混合,在磁场条件下聚合,然后洗脱模板剂,即得到所述传感器。本发明通过引入磁场优化多巴胺聚合过程,避免了局部过度交联,形成了均一、高效的特异性识别位点,所制备的传感器结合了适配体的高亲和力与分子印迹的高稳定性,并利用MOF的过氧化物酶活性实现双模式信号输出。其对赭曲霉毒素A的检测具有线性范围宽、检出限低、特异性好、重复性佳等优异性能,可用于食品中真菌毒素的快速、高灵敏检测。