钨薄膜制作设备和方法

本发明提供一种钨薄膜制作设备和方法，属于半导体制造技术领域，本发明的钨薄膜制作设备包括工艺腔、承载台、遮挡罩存放室和遮挡机构。其中，承载台设置在工艺腔中，承载台用于承载晶圆；遮挡罩存放室设置在工艺腔一侧；遮挡机构设置在遮挡罩存放室中，遮挡机构包括驱动机构和遮挡罩，遮挡罩连接于驱动机构上；工艺腔上设置有窗口，窗口与遮挡罩存放室相连通，窗口与遮挡罩的位置相对应。本发明的钨薄膜制作设备，能够在完成化学气相沉积工序后，于同台设备内实现对晶圆周向边缘沉积钨层的原位去除，无需在后续工艺中额外配置边缘刻蚀工序和设备，从而有效节省了制程工序并降低了制造成本。