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剥离层及具有其的超薄铜箔的制备方法

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

张晓杰

IPC 分类

C25D 5/16 (2006.01)C25D 9/04 (2006.01)C25D 3/12 (2006.01)C25D 3/38 (2006.01)C25D 7/06 (2006.01)

本发明公开了一种应用于超薄铜箔制备中的剥离层,包括位于载体铜箔之上的隔离层,位于所述隔离层之上的导电层,超薄铜箔形成于所述导电层之上;其中,所述隔离层为金属镍层;所述导电层为石墨烯层。本发明还公开了基于所述剥离层的超薄铜箔的制备方法。本发明通过在载体铜箔上设置金属镍层,可提供稳定且致密的铜隔离层作用,避免载体铜与超薄铜层间离子迁移而导致的剥离失效问题;以及在金属镍层上设置石墨烯层,而石墨烯作为一种具有高导电性,良好分散性材料,可以提供100nm~1000nm范围内均匀且稳定的导电层;由金属镍层‑石墨烯层组成的剥离层,可以耐受超过400℃高温压合时隔离层仍然保持设计性能而不失效。