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坩埚装置、晶体生长系统、碳化硅晶体的制备方法

发明专利有效
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§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

李远田; 韩倩; 尹良良; 吴安楠; 胡家乐; 刘晨

IPC 分类

C30B 29/36 (2006.01)C30B 23/00 (2006.01)

本申请涉及晶体生长技术领域,公开了坩埚装置、晶体生长系统、碳化硅晶体的制备方法。该坩埚装置包括坩埚,所述坩埚内部限定出容纳空间;外环,通过螺纹连接在所述坩埚上方;坩埚盖,盖设在所述外环上,并通过螺纹与所述外环连接;石墨纸,设置在所述外环和所述坩埚盖之间,所述石墨纸的边缘夹设在所述外环和所述坩埚盖之间;多孔石墨筒,设置在所述容纳空间内部,所述多孔石墨筒的侧壁和所述坩埚的侧壁之间具有间隙;籽晶板,设置在所述石墨纸远离所述坩埚盖的表面,所述籽晶板的边缘夹设在所述石墨纸和所述多孔石墨筒之间。该坩埚装置能够确保晶体生长过程中无气相组分的逃逸,由此实现碳化硅晶体的高速生长。