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低反射膜
发明专利有效
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
孙鑫豪; 于佩强; 张林; 顾豪栋
IPC 分类
G02B 1/12 (2006.01)G02B 1/115 (2015.01)G02B 1/14 (2015.01)
本发明公开了一种低反射膜,所述低反射膜包括依次层叠设置的基材层、高硬涂层、改性涂层和减反射镀层;其中,所述改性涂层为含有实心二氧化硅粒子和空心二氧化硅粒子的丙烯酸树脂层;所述实心二氧化硅粒子的粒径为110nm‑130nm,所述空心二氧化硅粒子的粒径为50nm‑70nm;在所述改性涂层中,所述实心二氧化硅粒子的质量占比为20%‑40%,所述空心二氧化硅粒子的质量占比为0.5%‑5%。本发明通过在改性涂层中添加实心二氧化硅粒子和空心二氧化硅粒子,并控制二者的添加比例和粒径,增强了与减反射镀层之间的附着力,提高了薄膜的耐候性能。