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一种低漏电流复合叠层薄膜及其制备方法和应用
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
陈文杰; 彭波; 林全; 潘淼; 周伯萌; 李淑芬; 王锋
IPC 分类
H10D 1/68 (2025.01)C23C 16/40 (2006.01)C23C 16/455 (2006.01)
本发明属于复合材料制备技术领域,具体公开了一种低漏电流复合叠层薄膜及其制备方法和应用。该制备方法包括以下步骤:S1、对硅片衬底进行清洗预处理;S2、在S1中所述硅片衬底上依次沉积底层ZrO薄膜、中间AlO薄膜和顶层ZrO薄膜,形成ZrO/AlO/ZrO叠层结构,重复沉积,形成叠层薄膜,进行电极沉积,得到低漏电流复合叠层薄膜。本发明公开了一种低漏电流复合叠层薄膜及其制备方法和应用,该复合叠层薄膜可使漏电流密度大幅降低、保证高电容密度,可应用于制备12英寸晶圆电容介质薄膜。