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Dossier

光电封装工艺进行光口保护的方法

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§ Ⅰ

Dossier Overview

Applicant

中国科学院微电子研究所

Inventor

陈显鹏; 何慧敏; 刘丰满

IPC Classification

H10F 71/00 (2025.01)G02B 6/13 (2006.01)G02B 6/42 (2006.01)H10F 77/50 (2025.01)H10F 39/90 (2025.01)

本申请公开了一种光电封装工艺进行光口保护的方法,涉及半导体制造技术领域,通过键合将玻璃与带有空腔的光芯片相结合,形成玻璃空腔结构,由于玻璃具有高耐热和高结构强度的特性,能够承受高温和气压,不会在后续光的真空工艺过程中破裂,能够有效避免光口污染,显著降低光耦合损耗。该方法包括:通过键合将玻璃与带有空腔的光芯片相结合,形成玻璃空腔结构,玻璃空腔结构中光芯片位于底层层,玻璃位于顶层;将玻璃空腔结构形成光口保护层,按照设计顺序在光口保护层上沉积多个覆盖层;对每个覆盖层进行至少一次图形化工艺,以使得覆盖层上暴露出光电封装关键结构;将光电封装关键结构进行对齐叠加,得到具有光口保护功能的光电封装结构体。

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