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用于化学机械抛光的挡圈
发明专利有效
14权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
大卫·威尔金森; 史蒂芬·瓦姆斯利; 凯蒂·黑文斯; 克林特·诺威
IPC 分类
B24B 37/24 (2006.01)B24D 18/00 (2006.01)
一种用于化学机械处理的挡圈，包括由基体材料和填料制成的导热材料。所述填料按重量计占挡圈材料的10%至70%。
发明人
大卫·威尔金森; 史蒂芬·瓦姆斯利; 凯蒂·黑文斯; 克林特·诺威
IPC 分类
一种用于化学机械处理的挡圈，包括由基体材料和填料制成的导热材料。所述填料按重量计占挡圈材料的10%至70%。