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发光二极管外延结构及其制备方法

发明专利未知
26权利要求 · 2 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

李森林; 谢岚驰; 赖玉财; 廖寅生

申请日

Jul 22, 2026

公开日

Oct 16, 2026

IPC 分类

H10H 20/815 (2025.01)H10H 20/816 (2025.01)H10H 20/01 (2025.01)

本发明提供了一种发光二极管外延结构及其制备方法,包括:由下至上依次位于衬底上的N型欧姆接触层、晶格过渡层、N型窗口层、N型限制层、有源层和P型半导体层,其中N型欧姆接触层为砷化物层,N型窗口层为磷化物层,晶格过渡层包括由下至上依次设置第一晶格过渡层、第二晶格过渡层和第三晶格过渡层中的至少两层;本发明够提升外延层的晶体质量,且提升发光二极管的发光效率。