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一种降低芯片表面残胶和颗粒的方法和晶圆切割载体结构
发明专利未知
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§ Ⅰ
卷宗概要
发明人
刘远航; 请求不公布姓名; 徐俊成; 请求不公布姓名
申请日
Sep 10, 2026
公开日
Oct 16, 2026
IPC 分类
H10P 58/00 (2026.01)H10P 54/40 (2026.01)H10P 54/50 (2026.01)H10P 54/92 (2026.01)
本发明涉及芯片表面颗粒控制技术领域,具体涉及一种降低芯片表面残胶和颗粒的方法和晶圆切割载体结构,其中一种降低芯片表面残胶和颗粒的方法包括以下步骤:S1、贴膜;S2、切割;S3、UV预处理;S4、阶梯结构制备;S5、表面还原;S6、清洗。本发明提供的一种降低芯片表面残胶和颗粒的方法,通过在等离子激活工序之前增加颗粒控制措施,使切割槽内裸露的粘附层表层发生部分固化,同时保留芯片下方粘附层足够的粘性以防芯片偏移,再定量去除该固化层形成阶梯结构,直接去除在等离子激活前已经附着在固化层表面的颗粒,保证了较小的阶梯侧面的暴露面积,显著降低了后续等离子激活时由于粘附层脱落所新增的颗粒数量。