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针对高环境光场景的偏光片反射率抑制设计方法

发明专利未知
10权利要求 · 1 独立
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

杨帆

申请日

Sep 15, 2026

公开日

Oct 20, 2026

IPC 分类

G02B 27/00 (2006.01)G02B 5/30 (2006.01)

本发明公开了针对高环境光场景的偏光片反射率抑制设计方法,属于偏光片光学设计技术领域。该方法包括:根据环境光入射角分布数据计算偏光片膜层界面的有效反射率贡献因子;根据有效反射率贡献因子将膜层界面划分为高反射贡献界面组和低反射贡献界面组;对高反射贡献界面组中每个膜层界面提取折射率差值和入射光偏振态偏离度;根据折射率差值和入射光偏振态偏离度为每个高反射贡献界面独立确定相位调制参数;按照相位调制参数设置不同膜厚微调量;调整高反射贡献界面组中各膜层界面的实际光学厚度,使各高反射贡献界面处反射光的干涉条件发生差异化偏移。该方法能集中抑制主要反射界面,降低高环境光下的偏光片反射率。

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