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在反应器的反应室中支撑衬底的设备和包括其的反应室
发明专利未知
17权利要求 · 3 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
H10P 72/00 (2026.01)H10P 72/76 (2026.01)H10P 14/20 (2026.01)
一种用于在外延反应器的反应室中支撑衬底的设备,包括:具有第一面和第二面的盘形元件,所述盘形元件适于围绕其轴线(z)旋转;以及与所述盘形元件同轴的轴,其与所述盘形元件连接或成一体,并且在所述第二面处具有第一端;所述轴在其第二端具有至少一个凹部,该凹部的旋转适于由非接触式测量装置检测。