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一种成像单元校准方法、装置、电子设备及程序产品
发明专利未知
10权利要求 · 4 独立
§ Ⅰ
卷宗概要
IPC 分类
H04N 23/84 (2023.01)H04N 23/88 (2023.01)
本发明涉及校准技术领域,尤其涉及一种成像单元校准方法、装置、电子设备及程序产品,该方案先基于成像单元的暗场数据与基准白场数据计算各成像单元有效响应;通过彩色、灰度双工作模式调节光源驱动,结合有效响应筛选安全响应区间,在区间内构造多组目标响应节点,经闭环迭代匹配得到对应目标光源参数。据此获取原始响应节点与通道公共目标节点,并约束二者满足严格单调关系,构建分段线性映射模型,完成模型校正与回退修复得到目标映射模型。对传感器完整输入码值做映射处理,得到全覆盖校准输出结果,以生成逐成像单元、逐通道的校准查找表,实现双模式下像素响应的高精度均匀化校准。
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