CNIPA.AI
返回搜索
档案

감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 감활성광선성 또는 감방사선성막, 패턴 형성 방법, 및 전자 디바이스의 제조 방법

发明专利patent.status.granted
§ Ⅰ

卷宗概要

发明人

미요시 타로; 야마구치 슈헤이; 모토야마 히로키

申请日

Jan 18, 2023

公开日

Dec 31, 2025

IPC 分类

G3F 7/4C8F 212/14C8F 220/26G3F 7/38G3F 7/39G3F 7/20H1L 21/27

CPC 分类

G3F7/4C8F212/14C8F220/26G3F7/45G3F7/382G3F7/397G3F7/20H1L21/274