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本发明涉及陶瓷材料精密加工技术领域，公开了一种适用于氮化硅陶瓷的高效抛光液及其应用，所述抛光液按质量百分比计，由胶体二氧化硅5%～25%、纳米氧化铈0.2%～3%、碳酸盐缓冲剂0.1%～2%、有机羧酸盐0.05%～1%、聚羧酸盐分散剂0.02%～0.3%、非离子表面活性剂0.005%～0.2%、pH调节剂0.01%～1%和余量去离子水组成，pH为10.5～12.2。本发明适用于氮化硅陶瓷的高效抛光液不含Cr2O3、金刚石、立方氮化硼和α‑Al2O3，避免了含铬组分和高硬度磨料体系带来的后处理压力、硬沉降和表面粗糙度偏高等问题。