原始名称记载: 浙江日久新材料科技有限公司

本发明公开了一种复合铜膜、制备方法及电子设备，其中复合铜膜，包括基材，以及至少形成于基材一侧的复合铜层，所述复合铜层顺次包括，以远离基层的方向观察：加硬层；打底层，厚度20‑50nm，通过多元合金反应溅射形成；功能层，为溅射形成的铜功能层，其厚度依据方阻要求而设置。本发明解决现有铜膜附着力低、环境可靠性差的问题，铜膜常温附着力达5B级，双85、水煮、盐雾环境下仍保持4B级以上，且柔韧性优异，适用于柔性电子、电磁屏蔽等领域。

本发明公开了一种防反射膜、制备方法、应用及电子设备，其中防反射膜，包括顺次设置的基材层、硬化层、AR层以及AF层，其中形成所述AR层后经过在额外施加的静电场下进行电晕处理，再形成AF层的。本发明通过在电晕作业中加入电场，通过尖端放电能贯穿整个薄膜，既能提高薄膜表面能，又能提高电晕深度，提升其粗糙度，能有效提升AF膜的耐磨与实用性问题。且本发明方法便捷且有效，无环境污染，成本较低。

本发明公开了一种OCA光学胶、胶膜及制备方法，OCA光学胶的原料包括如下重量份组分：80‑100份聚（甲基）丙烯酸树脂，0.1‑2份聚氨酯改性丙烯酸酯，0.01‑0.5份第一光引发剂；0.01‑0.5份流平剂；其中，所述聚（甲基）丙烯酸树脂的数均分子量为100000‑200000，PDI为1.6‑2.2，粘度为1500cps‑3000cps。使用本发明中的OCA光学胶制备得到的胶膜具有稳定的粘结力，在不同的环境测试条件下均显示出稳定的粘结特征，同时随着放置过程，蠕变/回复数据稳定，适宜长时间保存使用。另外，胶膜耐黄变性，尤其耐UV、耐QSUN以及75220测试优异。