原始名称记载: 株式会社荏原制作所

在进行脉冲镀覆的各种类型的镀覆装置中，提高镀覆膜厚的均匀化。本发明的镀覆装置具备：第一镀覆槽，向基板与阳极之间施加正向电流及反向电流脉冲，从而对上述基板进行镀覆；第一流路，与储液罐连接，用于从上述储液罐排出镀覆液；第二流路，与上述第一流路及上述第一镀覆槽连接，向上述第一镀覆槽供给镀覆液；第三流路，与上述第一流路连接，使从上述储液罐排出的镀覆液绕过上述第一镀覆槽而回到上述储液罐或者向排出口排出；第一阀，用于在上述第二流路与上述第三流路之间调节镀覆液的流动；以及控制模块，在上述基板的镀覆中，根据反向电流脉冲的时机来控制上述第一阀，从而在上述第二流路与上述第三流路之间调节镀覆液的流动，使向上述第二流路的镀覆液的供给停止或者与正向电流的区间相比减少。

在基板研磨中精确测定研磨对象的膜的厚度。基板研磨装置具备：设置有涡电流传感器且构成为可旋转的研磨台；与所述研磨台相对、构成为可旋转且在与所述研磨台相对的面能够安装基板的研磨头；及控制部。所述控制部构成为：使用所述涡电流传感器对参考基板的输出信号，生成表示局部存在于所述参考基板表面或内部的一个或多个金属构造物的配置的映射数据，在具有与所述参考基板相同的金属构造物的配置的研磨对象基板的研磨中，获取所述涡电流传感器通过所述研磨对象基板的被研磨面上的某条轨道时的所述涡电流传感器的输出信号的轮廓，基于所述轮廓，确定与该轮廓对应的所述涡电流传感器在所述研磨对象基板的被研磨面上通过的轨道，基于所述映射数据，判定所述研磨对象基板的确定出的所述轨道上有无金属构造物，以使判定为存在所述金属构造物的位置的信号值减少的方式修正所述涡电流传感器对所述研磨对象基板的输出信号的所述轮廓，基于修正后的所述涡电流传感器的输出信号的轮廓，计算所述研磨对象基板的膜厚。

本发明提供一种真空泵，粉末难以夹在罗茨转子间，能够维持罗茨转子的顺畅旋转，并且还能够使用间隙规准确地测量罗茨转子间的间隙。第一罗茨转子(8)和第二罗茨转子(9)分别具有：具有由渐开线曲线构成的形状的渐开线侧面(31)；位于渐开线侧面(31)的径向外侧的圆弧凸面(34)；位于渐开线侧面(31)的径向内侧的圆弧凹面(36)；将渐开线侧面(31)与圆弧凸面(34)平滑地连结的外侧平滑曲面(35)；以及将渐开线侧面(31)与圆弧凹面(36)平滑地连结的内侧平滑曲面(37)。圆弧凸面(34)的曲率半径(R1)小于圆弧凹面(36)的曲率半径(R2)。

本发明提出一种能够使形成于镀覆对象物的镀覆膜的厚度的均匀性提高的镀覆装置。镀覆装置的电阻体具备第一电阻部件和第二电阻部件。上述第一电阻部件从上方观察为圆环状，在上述第一电阻部件形成有在基板保持架侧和阳极侧开口的多个第一贯通孔。在上述第二电阻部件的上表面形成圆环状的槽并在上述槽配置上述第一电阻部件，在上述第二电阻部件形成有在上述基板保持架侧和上述阳极侧开口的多个第二贯通孔。上述电阻体构成为通过使配置于上述第二电阻部件的上述槽的上述第一电阻部件旋转而使上述第一电阻部件的上述第一贯通孔与上述第二电阻部件的上述第二贯通孔重叠的大小可变。

本发明根据基板上的晶片的配置图案来适当地遮蔽非图案区域。一种电阻体遮罩，用于在镀覆装置中配置在基板与阳极之间并具有两个四边形重叠而成的十字形的图案区域的电阻体，其中，具备：与上述两个四边形中的一个四边形的各角部对应设置的第一遮罩片～第四遮罩片；和相对于从上述一个四边形的相互对置的两边的各边向外侧延伸的一对突出部分分别设置的第五遮罩片及第六遮罩片。

本发明提供一种镀覆装置。该镀覆装置具备：镀覆槽；基板保持架；阳极；至少一个电阻体，配置于上述阳极与上述基板保持架之间，用于电场调整，上述至少一个电阻体分别具备与阳极侧及基板保持架侧连通的多个贯通孔；以及电阻部件，配置于上述阳极与上述基板保持架之间，用于电场调整，上述电阻部件具备导入流体的导入口，构成为使上述电阻部件的内部的上述流体的量或压力变化从而使体积变化，上述电阻部件设置为在上述至少一个电阻体的最靠近上述阳极的面上不堵塞上述多个贯通孔。